合光光掩??萍迹ò不眨┯邢薰境兯?xiàng)目

合光光掩??萍迹ò不眨┯邢薰境闪⒂?023年4月,坐落于“大湖名城,創(chuàng)新高地”安徽省省會(huì)合肥市新橋科創(chuàng)示范區(qū),注冊(cè)資本14.33億元。公司擬投資50.1億元建立光掩模生產(chǎn)基地,占地面積49.5畝,總面積約3萬(wàn)平方米,作為一家國(guó)內(nèi)獨(dú)立的高端光掩模生產(chǎn)制造商,公司主要從事掩模板的研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和銷售業(yè)務(wù)。

本項(xiàng)目是為合光光掩??萍迹ò不眨┯邢薰?2英寸半導(dǎo)體制造工藝提供超純水解決方案。通過(guò)集成應(yīng)用M/CF預(yù)處理、反滲透(RO)、電去離子(EDI)以及PMB等核心工藝技術(shù),構(gòu)建了一套高效的超純水制備系統(tǒng)。該系統(tǒng)可有效滿足客戶生產(chǎn)線對(duì)于超純水質(zhì)量及供應(yīng)穩(wěn)定性的嚴(yán)格要求,為客戶的半導(dǎo)體制造流程提供可靠的水質(zhì)保障。